گرافین بڑے علاقے کے لچکدار الیکٹرانکس کے لئے نیا حیرت انگیز مواد ہے. خاص طور پر سخت اور لچکدار، کیونکہ یہ ہیروں، کوئلے یا پنسل لیڈز کے گریفائٹ کا کیمیائی رشتہ دار ہے - صرف بہتر ہے، کیونکہ یہ بجلی اور گرمی کو بہت اچھی طرح سے چلاتا ہے اور انتہائی لچکدار ہے. اس کے علاوہ، صرف ایک جوہری پرت کے ساتھ، یہ کائنات کے سب سے پتلے مواد میں سے ایک ہے - ایک ملی میٹر موٹے کے دس لاکھ ویں حصے سے بھی کم. اور لہذا متعدد ممکنہ ایپلی کیشنز کے لئے موزوں ہے.

تاہم ، اکثر اس ایپلی کیشن کے لئے ثابت شدہ مینوفیکچرنگ کے عمل کی کمی ہوتی ہے۔ تاہم ، گرافین کی بڑے پیمانے پر ترکیب کے لئے پہلے سے ہی مختلف طریقے موجود ہیں۔ کیمیائی بخارات کا جمع ہونا امید افزا ثابت ہوا ہے۔ ابتدائی مواد ، کاربنسیس گیس (نام نہاد پیشرو) ، ایک سبسٹریٹ کے اوپر سے گزرتا ہے اور کیمیائی طور پر سڑ جاتا ہے ، جس کے ذریعہ گرافین کو ٹھوس حالت کی فلم کے طور پر جمع کیا جاتا ہے ، یعنی ایک نئی پرت تشکیل دی جاتی ہے۔

نام نہاد پیشرو عام طور پر حرارتی طور پر الگ الگ ہوتے ہیں۔ سبسٹریٹ کو گرم کرکے۔ تاہم ، یہ پابندی کی طرف جاتا ہے کہ یہ ایک سبسٹریٹ ہونا چاہئے جو گرمی کے بوجھ کا مقابلہ کرسکتا ہے۔ تاہم، اب ان منفی اثرات کو کم کرنے کے لئے سی وی ڈی طریقہ کار کی مختلف اقسام موجود ہیں.

یہاں عام سی وی ڈی طریقوں کا ایک مختصر جائزہ ہے۔

• اے پی سی وی ڈی: فضائی دباؤ سی وی ڈی. یہاں، عام کام کا درجہ حرارت 400-1300 °C ہے
• ایل پی سی وی ڈی: کم دباؤ سی وی ڈی. یہاں، عام کام کا درجہ حرارت 500-1000 °C ہے
• پی ای سی وی ڈی: پلازما میں اضافہ سی وی ڈی. یہاں، عام کام کا درجہ حرارت 200-500 °C ہے
• اے ایل ڈی: جوہری پرت کا جمع ہونا۔ ایک گردشی عمل جو مختلف سائیکلوں کی وجہ سے ایک عین پرت موٹائی حاصل کرنا آسان بنادیتا ہے۔
• ایچ ایف سی وی ڈی طریقہ کار. یہاں، عام کام کا درجہ حرارت 150-1100 °C ہے

کیمیائی بخارات جمع کرنا (سی وی ڈی) اب بھی گرافین پیدا کرنے کا سب سے مؤثر طریقہ ہے. پھر بھی، 100 فیصد بہترین نہیں. لہذا ، عمل کو بہتر بنانے اور قابل اعتماد بڑے پیمانے پر پیداوار کو قابل بنانے کے لئے سی وی ڈی کے مختلف طریقوں کو تیار کیا جارہا ہے۔