Nuwe elektroniese toestelle soos aanraakskerms, buigsame skerms, drukbare elektronika, fotovoltaïese of vastetoestandbeligting het gelei tot 'n vinnige toename in die markgroei van buigsame, deursigtige elektriese geleiers. Ons lesers weet reeds dat ITO (indium tinoksied) lankal nie meer 'n oplossing is nie. Ook dat die vraag na grafeen as 'n ITO-plaasvervanger die afgelope paar jaar skerp gestyg het. Onlangse vooruitgang in die sintese en karakterisering van grafeen toon dat dit interessant is vir baie elektroniese toepassings as 'n deursigtige geleier.

Omdat grafeen bewys het dat dit nuttig is in hierdie gebied, word meer en meer skaalbare moontlikhede van hoë gehalte en terselfdertyd goedkoop produksiemetode gesoek. Die volgende tabel lys die belangrikste sintesemetodes vir grafeen tot nog toe.| Sintese metode| Beginsel| |----|----| | Meganiese afskilfering| Skil met behulp van 'n kleeffilm die boonste laag van 'n grafietkristal af en dra dit oor na 'n geskikte draer| | Chemiese afskilfering| Deur interkalasie van geskikte reagense tussen individuele lae van 'n grafietkristal word grafeenvlokkies in oplossing verkry met behulp van ultrasoniese behandeling| | Vermindering van grafenoksied| Afskilfering van grafietoksied in water na grafenoksied, gevolg deur chemiese reduksie om suurstofgroepe te verwyder| | Epitaksiale groei op silikonkarbied| Termiese ontbinding van 'n silikonkarbiedkristal by ongeveer 1000 grade C.| | Gemengde gasfase-isolasie (CVD)| Katalitiese ontbinding van 'n gasvormige koolstofbron (bv. metaan) na grafeenmonolae op 'n metaalsteun (Cu of Ni)|

Terloops, CVD (chemiese dampneerlegging) is een van die interessantste metodes van grafeensintese (sien tabel hieronder) omdat dit byna perfekte grafeen produseer.| Grafeen materiaal| Keurvors. Faktor| Deursigtigheid| |----|----|----| | CVD-G|280 Ω/m²| 80%| | CVD-G|350 Ω/vk|90%| | CVD-G|700 Ω/vk|80%|Met hierdie sintesemetode was die gevolglike deursigtigheid met lae elektriese weerstand redelik hoog (80%).